新能源用鈦靶材是用于薄膜沉積的高純度鈦或鈦合金材料（純度≥99.99%?），遵循半導體級制造... 【詳情】

光學級鈦靶材是高端鍍膜的核心材料，其性能直接影響光學系統(tǒng)的能量損耗（每0.1%雜質增加約... 【詳情】

鈦管靶憑借其高材料利用率和均勻鍍膜特性，在顯示面板（如G10.5代線需Φ450×2500mm靶管）和... 【詳情】

鈦靶材因其優(yōu)異的綜合性能（性價比、成膜質量、工藝適應性），占據真空鍍膜靶材市場約35%的... 【詳情】

鈦靶管憑借高材料利用率與鍍膜均勻性，在顯示面板（如8K OLED）和光伏領域占據主導地位。相... 【詳情】

圓柱鈦靶材憑借其高致密性與工藝適應性，在半導體（如5 nm節(jié)點TiN阻擋層）和超精密光學領域... 【詳情】

1、高純鈦靶裝飾用純鈦靶是一種用于物理氣相沉積（PVD）工藝的高純度鈦材料，通常以塊狀或板... 【詳情】

平面顯示用鈦靶是高端顯示面板制造的核心材料，其超純、高密度和微觀均勻性要求遠高于裝... 【詳情】

1、定義純鈦靶是以鈦金屬為主要成分，純度通常在 99.95%（3N5級）以上 的濺射靶材，用于物理氣... 【詳情】

鍍膜用鈦管靶憑借其高利用率、優(yōu)異膜厚均勻性和旋轉濺射適應性，成為大面積連續(xù)鍍膜的核... 【詳情】

工業(yè)涂層用鈦圓柱靶憑借其高純度、優(yōu)異熱管理能力和適配多種復合涂層的靈活性，成為機械... 【詳情】

1、定義TA2純鈦靶是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA2（工業(yè)純鈦） 為基礎材料，通過特殊... 【詳情】

1、定義TA1純鈦靶管是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1（工業(yè)純鈦） 為基礎材料，通過二... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業(yè)涂層領域的核心... 【詳情】

TA1鈦圓柱靶通過提純工藝在保留工業(yè)純鈦成本優(yōu)勢的同時，顯著提升了純度與濺射性能，成為... 【詳情】

表面涂層與防護用鉻靶材是以高純度金屬鉻或鉻合金（如鐵鉻合金）為材質?，通過真空鍍膜技術... 【詳情】

名稱：鉻多弧靶牌號：Gr用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍... 【詳情】

產品名稱：鉻旋轉靶鉻管靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( kg/ 塊）用途：鉻... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( kg... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：高純鉻靶,鉻靶材,鉻靶塊產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

牌號：鉻靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：高純鉻靶,鉻靶材,鉻靶塊產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【詳情】

產品名稱：鉻平面靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/塊）用途：鉻靶用于... 【詳情】

產品名稱：鉻旋轉靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/塊）用途：鉻靶用于... 【詳情】

產品名稱：鉻管靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/ 塊）用途：鉻靶用于半... 【詳情】

集成電路晶體管制造用鋯靶是以高純度金屬鋯（純度≥99.9%）或鋯合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）為... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

產品名稱：鋯靶、鋯靶塊牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

產品名稱：鋯靶牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺... 【詳情】

產品名稱：鋯靶管、鋯旋轉靶廠家：凱澤金屬材 質：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純... 【詳情】

產品名稱：鋯靶牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材 、鋯平面靶純度：99.6%類型：平面靶材標準：國標、美標、德標均可生產狀態(tài)：冷... 【詳情】

產品名稱：鋯靶管、鋯旋轉靶廠家：凱澤金屬材 質：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+... 【詳情】

產品名稱：鋯靶、鋯板靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產工藝：熱軋+冷... 【詳情】

產品名稱：純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、... 【詳情】

半導體制造用鎳靶材是以高純度鎳（≥99.95%）或鎳基合金（如鎳鎢、鎳鈷）為材質?，通過物理氣相... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規(guī)格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱：鎳靶（鎳多弧靶）產品材質：Ni產品規(guī)格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (... 【詳情】

產品名稱：鎳靶塊牌號：N6, N4用途：鎳靶塊主要用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規(guī)格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳靶管牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號： N6、 N4用途：用于半導體分離器件、平... 【詳情】

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規(guī)格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯... 【詳情】

產品名稱：鎳銅靶材，鎳銅多弧靶，鎳銅旋轉靶，鎳銅平面靶牌號：NiCu用途：用于半導體分離器件、平... 【詳情】

產品名稱名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳靶管牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、... 【詳情】

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號： N6、 N4用途：用于半導體分離器件、平... 【詳情】

裝飾與功能鍍膜用鈦鋁靶是以鋁鈦合金（原子比50-70:30-50）為材質?、純度≥99.8%?的濺射... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規(guī)格及參數如下：1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮，氣孔，裂... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規(guī)格參數純度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

凱澤金屬鋁圓柱靶的供貨規(guī)格及參數如下：1、表面車光、倒角。表面清潔光滑無起皮，氣孔，裂... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶管、鈦鋁靶一、產品規(guī)格參數純度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【詳情】

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12 Φ... 【詳情】

產品名稱：鈦鋁靶材、鈦鋁多弧靶、鈦鋁合金靶牌號：TiLv80:20 ， 70:30 ， 30：70 ， 50:50用途：用... 【詳情】

電路板與芯片封裝用銅靶是以高純度銅（≥99.99%）為材質?，具備高導電性（低電阻）和優(yōu)異熱導率... 【詳情】

產品名稱：銅靶材、銅多弧靶, 銅平面靶，銅旋轉靶牌號：Cu用途：用于半導體分離器件、平面顯示... 【詳情】

名稱：銅靶材、銅多弧靶, 銅平面靶，銅旋轉靶牌號：Cu用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、... 【詳情】

工業(yè)防護耐磨鍍層用鐵靶是以高純度鐵金屬為材質?，通過濺射工藝在基材表面形成高硬度、... 【詳情】

一、光伏新能源用不銹鋼靶材的定義與核心特性分類詳細描述定義以不銹鋼（Fe-Cr-Ni系合金... 【詳情】